光刻机作为制造芯片的机器,比原子弹还稀有,那它到底难在哪里?

发布者:大夏真兴 2023-2-9 14:38


光刻机

光刻机是什么?光刻机就是制造芯片的机器,而芯片就是集成电路,是所有高科技机器里的核心。


那光刻机的工作原理又是什么?类似像冲洗照片,但不一样的是洗照片是把小的底片放大。

而光刻机是把大的底片缩小,缩的非常非常小,就是把电路图缩印到晶圆“相纸”上。

为什么看似原理如此简单的机器,制造门槛如此之高呢?

问题就出在了精度上,量变产生了质变。

举个例子,给你一张普通的电路图,要你画到一张A4纸上肯定非常简单。

那如果要是画到一张邮票大小的纸上,就有一定的挑战性了,一般人做不到,但还会有很多人可以办到的。

现在是要你把电路图画到一粒沙子上,我想世界上就没几个人愿意去试一下了。

而光刻机就是要你把这个沙子放到一个全速前进的赛车玻璃上,而你在另一辆赛车一边追一边在沙子上画,还不能出错。

这样就几乎不可能完成了。

光刻机也分低端和高端,10纳米以下是高端。

你可以理解为笔的粗细,笔越细越高端,同样一粒沙子,笔越细画的东西就越多。

目前最高工艺是5纳米,也就是仅仅50个原子的宽度。

在这种极端精度下很多原本可以忽略不计的细节全部都变成了障碍。

就比如说震动,这种精度下任何震动都极度地敏感。

比如说关个门结果可能就是灾难性的,所以必须要搭配一个极端精密的减震系统。

再比如光源,它是画图用的,它必须频率稳定,能量均匀,平行度高。

就像那个笔,它不能一会粗一会细,一会断油了,一会漏了。

任何曝光不准都会严重影响成像。

所以它需要光束矫正器,能量控制器等一系列辅助设备。

再比如掩膜版,就是“底片”。它在掩膜台上运动控制的精度必须是纳米级别的。

稍有偏差成像就会出现问题。

再比如反光镜,它是引导光线的,精度以皮米计算,也就是万亿分之一米。

如果反光镜的面积有整个德国那么大,那么最高凸起不能超过1厘米。

再比如透镜,它是把电路图按比例缩小的。

如此庞大的体积让光线穿过层层叠叠的镜片,多次折射不出偏差,最终达到纳米级别光刻精度。

所以镜片的纯度,打磨难度和组装难度可想而知了。

而在生产的过程当中,人类又成了最大的污染源。

普通人每天要代谢10亿个皮肤微粒,所以无尘车间的要求同样极高。

在如此高难度之下,没有任何一家公司可以独立完成所有环节。

即使高端光刻机领域绝对领先的荷兰ASML核心优势也是在设计和组装校准上。

十多万个零件,绝大部分都是外包的。

比如光源采用美国的Cymer,透镜是德国的蔡司。

一个看似简单的原理,在超高精度的制约下需要结合光学、材料、控制、电子、机械、化学等最顶尖的技术。

才能最终完成这一人类历史上几乎最精密的机械。


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